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減反射膜

減反射膜又稱增透膜，其主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面反射鏡等表面反射，從而增加這些元件的透過率，減少或消除雜散光系統。

減反射膜原理

反光膜是基于光的波動和干涉現象。兩個相同振幅、相同波長的光波疊加，光波振幅增強；如果兩個光波有相同的原點，波的路徑不同，如果疊加，就會互相抵消。

反射膜是利用這一原理，在透鏡表面涂上反射膜，使膜前后表面發生干擾，從而抵消反射光，達到防反射的效果。

減反射膜應用

減反射膜在實踐中應用廣泛，最常見的是透鏡和太陽能電池——通過制備減反射膜來提高光伏組件的功率瓦數。

早期的光伏電池可以采用不同二氧化硅和二氧化鈦膜作為減反射層。

氮化硅是目前用于晶體硅光伏電池的減反射膜材料。等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術用于電離氨和硅烷，這些氨和硅烷沉積在高折射率的硅片表面，可以發揮更好的抗反射效果。

減反射膜制備方法

溶膠-凝膠法是以化學活性成分高的化合物為前驅體，將這些原料在液相中均勻混合，進行水解和縮合化學反應，在溶液中形成穩定的透明溶膠體系，然后通過提拉、鍍膜等工藝在基底上獲得減反射膜。

化學化學氣相沉積(CVD)是在襯底上沉積薄膜，襯底加入含有元素的氣體，這些元素通過化學反應形成薄膜，使用諸如加熱、等離子體和紫外光等能源，可以制備出正辛、硫化鋅、二氧化硅和碳化硅減反射薄膜。

磁控濺射法是在高真空中充入適量的氬氣，在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極鍍膜室壁之間施加DC電壓，使鍍膜室內產生磁控異常輝光發電，使氬氣電離。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，中性的靶材原子(或分子)沉積在基底上形成薄膜。氧化鉭和氮化硅膜最常用磁控濺射法制備。